GHK-5100多組分溫室氣體分析儀基于TDLAS可調式半導體激光器吸收光譜技術(shù)，內置激光控制模塊、吸收池、泵吸處理控制模塊、信號處理模塊，可實(shí)現進(jìn)樣氣的實(shí)時(shí)在線(xiàn)及現場(chǎng)便攜測量，通過(guò)擴展激光器可實(shí)現多組分氣體同步測量。下文簡(jiǎn)單地為您介紹一下關(guān)于“TDLAS檢測溫室氣體原理"。

    TDLAS檢測溫室氣體原理為通過(guò)電流和溫度調諧半導體激光器的輸出波長(cháng)，掃描被測物質(zhì)的某一條吸收譜線(xiàn)，通過(guò)檢測吸收光譜的吸收強度獲得被測物質(zhì)的濃度。

    TDLAS檢測的是激光穿過(guò)被測氣體通道上的分子數，獲得的氣體濃度是整個(gè)通道的平均濃度。TDLAS的氣體濃度定量計算是以Beer-Lambert定律為基礎，Beer-Lambert定律指出了光吸收與光穿過(guò)被檢測物質(zhì)之間的關(guān)系，當一束頻率為V的光束穿過(guò)吸收物質(zhì)后，在光束穿過(guò)被測氣體的光強變化為：

    I(v)=I0(v)exp[-σ(v)CL]

    I(v)：光束穿過(guò)被測氣體的透射光強度

    I0(v)：入射光強度

    σ(v)：被測氣體分子吸收截面

    C：被測氣體的濃度

    L：光程

    因此，可通過(guò)測量氣體對激光的衰減來(lái)測量氣體的濃度。值得注意的是σ(v)吸收截面是分子吸收線(xiàn)強S(V)和分子吸收線(xiàn)形φ（V）的乘積，吸收線(xiàn)強S(V)受到氣體溫度的影響，吸收線(xiàn)形φ（V）收到壓力展寬的影響，因此在實(shí)際檢測中，TDLAS分析儀需輸入溫度和壓力值進(jìn)行補償，如果過(guò)程氣體的溫度和壓力變化比較大，還需要通過(guò)接入溫度和壓力傳感器實(shí)時(shí)進(jìn)行溫度壓力補償。

    GHK-5100多組分溫室氣體分析儀采用模塊化定制，體積小、重量輕，采用溫度、壓力補償算法以及光源自動(dòng)鎖頻技術(shù)，環(huán)境適應性強，滿(mǎn)足用戶(hù)高精度溫室氣體在線(xiàn)連續監測需求。

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